电子行业含氟废水处理的基本原理与采用的处理工艺
更新时间:2021-05-26 点击次数:2673
电子行业含氟废水处理的基本原理:
利用铝离子的三种机理来去除氟离子,即:
(1)吸附。铝盐絮凝除氟过程中生成的具有很大表面积的无定性Al(OH)3(am)原体对氟离子产生氢键吸附,氟离子半径小,电负性强,这一吸附方式很容易发生。
(2)离子交换。氟离子与氢氧根的半径及电荷都相近,铝盐絮凝除氟过程中,投加到水中的A113O4(0H)147+等聚阳离子及水解后形成的无定性Al(0H)3(am)沉淀,其中的OH-与F-发生交换,这一交换过程是在等电荷条件下进行的。
电子行业含氟废水处理的工艺:
此工艺采用的就是传统的石灰沉淀法,原理是钙离子和氟离子会生成难溶的氟化钙沉淀,但是石灰乳因为氢氧化钙难溶的特性,所以在水中的解离程度很小。
而氯化钙的溶解度大,提高水中的钙离子使生成氟化钙的化学平衡右移,从而提高氟的去除率。
但是对于含氟很高的废水有时候单单石灰沉淀法是去除不到标准的,因此在石灰沉淀后再设PAC沉淀,一方面是对上一段出水较难沉淀的氟化钙进行絮凝沉淀处理;
另一方面,PAC对于氟离子亦有去除作用,其机理比较复杂,主要有吸附、离子交换、络合沉降三种作用机理,在此不深入研究。
因此,通过两步的物理处理手段,一般可达到处理目标。需要注意的是,处理过程中产生的污泥要交由有资质的处理单位处理或者回收等。