单晶硅废水除氟不达标？深度除氟剂帮你解决！

单晶硅作为一种比较活泼的非金属元素晶体，是晶体材料的重要组成部分，主要用作半导体材料和利用太阳能光发发电、供热等。在单晶硅生产过程的制绒、刻蚀、酸洗等环境，会用到大量氢氟酸等化学物质，从而使得废水中氟离子含量高，给光伏、半导体等废水的处理带来了挑战。

对于含氟废水的处理，目前国内大多数生产厂尚无完善的处理设施，所排放的废水氟含量超过国家排放标准，会严重污染到环境。目前国内外常用的含氟废水处理方法大致分为两类，即沉淀法和吸附法。

化学沉淀法是方法简单、处理方便，费用低，但处理后的废水氟含量一般只能降到15mg/L，而且存在泥渣沉降缓慢，脱水困难，不适用连续处理连续排放等缺点。吸附法一般只适用于低浓度的含氟废水或经其他方法处理后氟化物浓度降至10-20mg/L的废水。

深度除氟剂针对化学沉淀法以及吸附法无法再降低的低浓度含氟废水，进行深度处理，可降至0.5mg/L，且相比市面其它产品而言，污泥能够减少30-50%，能够帮助客户节约成本。